usdt钱包(caibao.it):狂购最先进EUV光刻机:台积电最先为1nm制程做准备

admin/2020-12-30/ 分类:淮北民生/阅读:

之前有新闻称,台积电正在筹集更多的资金,为的是向ASML购置更多更先进制程的EUV光刻机,而这些都是为了新制程做准备。

在不久前举行的线上流动中,欧洲微电子研究中心IMEC首席执行官兼总裁Luc Van den hove在线上演讲中示意,在与ASML公司的互助下,加倍先进的光刻机已经取得了希望。

Luc Van den hove示意,IMEC的目的是将下一代高分辨率EUV光刻手艺高NA EUV光刻手艺商业化。由于此前得光刻机竞争对手早已经陆续退出市场,现在ASML把握着全球主要的先进光刻机产能,近年来,IMEC一直在与ASML研究新的EUV光刻机,现在目的是将工艺规模缩小到1nm及以下。

现在ASML已经完成了NXE:5000系列的高NA EUV曝光系统的基本设计,至于装备的商业化。要等到至少2022年,而等到台积电和三星拿到装备,之前要在2023年。

与此同时,台积电在质料上的研究,也让1nm成为可能。台积电和交大联手,开发出全球最薄、厚度只有0.7纳米的超薄二维半导体质料绝缘体,可望借此进一步开发出2纳米甚至1纳米的电晶体通道。

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据悉,台积电正为2nm之后的先进制程连续觅地,包罗桥头科、路竹科,均在台积电评估中长期投资设厂的考量之列。

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转载请注明出处:快科技

#台积电#光刻机

(责任编辑:张洋 HN080)
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