usdt钱包（caibao.it）：狂购最先进EUV光刻机：台积电最先为1nm制程做准备

之前有新闻称，台积电正在筹集更多的资金，为的是向ASML购置更多更先进制程的EUV光刻机，而这些都是为了新制程做准备。

在不久前举行的线上流动中，欧洲微电子研究中心IMEC首席执行官兼总裁Luc Van den hove在线上演讲中示意，在与ASML公司的互助下，加倍先进的光刻机已经取得了希望。

Luc Van den hove示意，IMEC的目的是将下一代高分辨率EUV光刻手艺高NA EUV光刻手艺商业化。由于此前得光刻机竞争对手早已经陆续退出市场，现在ASML把握着全球主要的先进光刻机产能，近年来，IMEC一直在与ASML研究新的EUV光刻机，现在目的是将工艺规模缩小到1nm及以下。

现在ASML已经完成了NXE:5000系列的高NA EUV曝光系统的基本设计，至于装备的商业化。要等到至少2022年，而等到台积电和三星拿到装备，之前要在2023年。

与此同时，台积电在质料上的研究，也让1nm成为可能。台积电和交大联手，开发出全球最薄、厚度只有0.7纳米的超薄二维半导体质料绝缘体，可望借此进一步开发出2纳米甚至1纳米的电晶体通道。

欧博allbet客户端ALLbet6.com

欢迎进入欧博allbet客户端（Allbet Game）：www.aLLbetgame.us，欧博官网是欧博集团的官方网站。欧博官网开放Allbet注册、Allbe代理、Allbet电脑客户端、Allbet手机版下载等业务。

据悉，台积电正为2nm之后的先进制程连续觅地，包罗桥头科、路竹科，均在台积电评估中长期投资设厂的考量之列。

- THE END -

转载请注明出处：快科技

#台积电#光刻机